Plasma Chemistry And Plasma Processing简介
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》是一本由SPRINGER出版商出版的专业工程技术期刊，该刊创刊于1981年，刊期Quarterly，该刊已被国际权威数据库SCIE、SCI收录。在中科院最新升级版分区表中，该刊分区信息为大类学科：工程技术 3区，小类学科：工程：化工 3区；物理：应用 3区；物理：流体与等离子体 3区；在JCR（Journal Citation Reports）分区等级为Q2。该刊发文范围涵盖工程：化工等领域，旨在及时、准确、全面地报道国内外工程：化工工作者在该领域取得的最新研究成果、工作进展及学术动态、技术革新等，促进学术交流，鼓励学术创新。2021年影响因子为3.337，平均审稿速度较慢,6-12周。
JCR分区（当前数据版本：2021-2022年最新版）
| JCR分区等级 |
JCR所属学科 |
分区 |
影响因子 |
| Q2 |
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS |
Q2 |
3.337 |
| PHYSICS, APPLIED |
Q2 |
| ENGINEERING, CHEMICAL |
Q2 |
期刊指数
| 影响因子 |
h-index |
Gold OA文章占比 |
研究类文章占比 |
OA开放访问 |
平均审稿速度 |
| 3.337 |
57 |
7.53% |
93.24% |
未开放 |
较慢,6-12周 |
