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Journal Of Laser Applications

Journal Of Laser Applications

简称:J LASER APPL
ISSN:1042-346X
ESSN:1938-1387
周期:Quarterly
出版地:UNITED STATES
通讯:LASER INST AMER, 13501 INGENUITY DR, SUITE 128, ORLANDO, USA, FL, 32826

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Journal Of Laser Applications简介

《Journal Of Laser Applications》是一本由AMER INST PHYSICS出版商出版的专业工程技术期刊,该刊创刊于1988年,刊期Quarterly,该刊已被国际权威数据库SCIE收录。在中科院最新升级版分区表中,该刊分区信息为大类学科:工程技术 4区,小类学科:材料科学:综合 4区;光学 4区;物理:应用 4区;在JCR(Journal Citation Reports)分区等级为Q3。该刊发文范围涵盖材料科学:综合等领域,旨在及时、准确、全面地报道国内外材料科学:综合工作者在该领域取得的最新研究成果、工作进展及学术动态、技术革新等,促进学术交流,鼓励学术创新。2021年影响因子为2.521,平均审稿速度>12周,或约稿。

JCR分区(当前数据版本:2021-2022年最新版)

JCR分区等级 JCR所属学科 分区 影响因子
Q3 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY Q3 2.521
PHYSICS, APPLIED Q3
OPTICS Q3

期刊指数

影响因子 h-index Gold OA文章占比 研究类文章占比 OA开放访问 平均审稿速度
2.521 43 4.73% 100.00% 未开放 >12周,或约稿
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